在研究所一直呆到了傍晚，晚上周宏邀请了李秀成和胡英梅去家里吃饭。
两个儿子都在外地上班，家里就老两口。
老太太很好客，尤其是知道李秀成是周宏的老板更是热情无比，拿出看家的本事整了满满当当的一桌子菜。
到餐末时，李秀成说道：“明天我就不去研究所了，我和胡会计到北京玩两天然后就直接飞兴蓉。
研究所这边还得要周教授您多费心，把好关。”
周宏一拍胸口，严肃道：“放心吧李总，只要我这把老骨头还立得起来，就不会让研究停下来。”
“嗯。我相信周教授！”李秀成微笑着点头，他对老前辈的道德品格是相当信任的，不过也是时候谈一谈光刻机的发展线路问题了。
现在研究的是老旧的干式微影光刻机，但未来是浸入式光刻机的天下，要怎么才能让老前辈接受这个观点呢？
这就要好好琢磨琢磨下了。
吃完饭，胡英梅帮着老太太去收拾碗筷。两人坐回到沙发上喝茶解腻。
李秀成斟酌着说道：“我有一个问题想要请教周教授。”
“光刻机的？有什么问题你尽管问。”周宏就是欣赏李秀成这一点，有什么不懂的也不憋着。同样，知道自己不懂，也不乱指挥人。
这样大方明理又能放权的老板，可比以前那些外行指挥内行的领导要强太多了。
“我知道光刻机的涂胶原理其实跟相机胶片暴光差不多，最近我也一直在恶补这方面的知识。
我知道像光刻机的生产效率、良率以及最小分辨率均在不断发展。
而光刻机的最小分辨率由一个公式R=kλ/NA控制。
其中R代表可分辨的最小尺寸也就是我们追求的精度，那么肯定就是R越小越好，k是工艺常数代表我们的工艺技术,λ.....λ...。
λ是什么来着？”
说到这里，李秀成像是卡了壳，挠着腮帮子说道。
周宏一脸好为人师的表情笑道：“λ是光刻机所用光源的波长，我们现在研究的就是G线光刻机，波长346NM。
NA代表物镜数值孔径这个东西也就是关键的暴光系统。
这也是最难的东西，我们现在造的都是落后别人十年的参数产品。
反正，光刻机制程工艺水平的发展是一直遵循你说这个公式的。
现在米国的最新型光刻机已经可以生产800NM制程的芯片，我们却还在1200nm徘徊，还差得远啰！”
说到最后，周宏反而一脸失落，也没了开始的兴致。
“哦，真复杂！”李秀成做出一脸我很懵的表情，然后话锋一转道：“但我大致抓到了两个重点，光源、物镜折射率！
想要提升芯片的生产效率和良率，是必须要同时发展光刻机的内部构造和工作模式。
那么我们可以从整体因素考虑，为什么不换一种光源，然后再换一种折射介质？”
“嗯？”周宏回过神来，有些奇怪的说道：“现在光线就G线和I线两种，波长在三百多到四百左右，确实比较大，而且国际上的公同认知是在193nm缩短到157nm制程时会出现瓶颈。
但折射介质是什么说法？”
见周宏来了兴趣，李秀成嘴角微勾然后迅速恢复原状。
这也就是现在的干式微影光刻机和浸没式光刻机的最大区别了！
他故意做出一脸不确定的说道：“光线我觉得可以多做试验，把什么XYZ射线啊，紫外线，极光都试试，总能找到最合适的。
至于折射率嘛，现在的光刻机光波是在空气中传播，然后照射暴光。
但我们读书时不是有个知识点，是光进入不同的介质波长会有所改变嘛？
那么我们能不能把物镜折射后的光源再次进行一次介质折射。
比如水，比如其他的液体！”
一口气说完最核心的东西，李秀成捧起茶杯看向周宏。
此刻，周宏呆坐当场。
但一双微眯着的眼睛和紧皱的眉头却显示出他的脑子里正在进行剧烈的思索。
李秀成没有催促，甚至没有说一句话，就捧着茶杯静静的等待着。
直到胡英梅和老太太走了出来，两人见客厅如此安静，再看到周宏像是泥塑木雕一般的状态，不由大为好奇。
“怎么了老头子？”老太太不轻不重的叫了一声。
嗯！
周宏一个激灵回了神，也不管老太太好奇的表情，前顷着身子两眼放光的看着李秀成，有些激动的说道：“李总，你这个方法的原理是完全可以说得通的！
但其中的难点也非常多。
我....我觉得我们可以试一试。
如果能够成功，这将是迥异于现在光刻机原理的新思路，我们可能获得巨大的进步与成功。
甚至，甚至理论中的157