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出了这种极紫外光刻机的原理样机,在业界掀起了不小的动静。
只不过这样的原理样机根本不具备完善的功能,只能证明这种极紫外光刻机技术原理是可行的,能够投入实用还不知道要猴年马月去了。
玄思科技集团这边设计制造生产的这种一百二十纳米光源系统却是已经成熟了,在浸没式镜头组的加持下能够顺利地将光刻工艺推进到二十纳米左右,因为玄思科技集团和拓西巴集团在华国国内已经开始量产这种支持二十二纳米光刻工艺的光刻胶产品。
此时尔英特集团提出自己要用更先进的极紫外光刻机设备显得是无比苍白无力。
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