“现在我们通过各种技术攻关后已经可以说已经解决了光刻机设备关键系统之一的工件台装置设计研发制造的技术难题，研制出来的这种步进扫描式工件台和掩膜台实现了高速高精度的同步运动，误差控制在了五纳米以下。”
周晓东开口说道：“目前我们自主研制的光刻机已经在实验生产线上开始测试试用了，已经完成了零点二五微米芯片光刻工艺的流片测试，另外我们自己在研制出来用在在晶圆光刻胶上面的防水涂层材料也是完成了测试，各方面的性能指标都达标了。”
“通过目前我们自己得到的各种实验数据，我们对这套八英寸光刻机设备在后年实现量产还是有信心的。”
周晓东开口说道：“不过要想实现量产和制程工艺的持续推进，国内还不能提供大口径光学镜片的超高精密抛光加工设备以及抛光材料。”