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的设备,这些设备里面的国产化率可以达到一个比较高的程度。”
周晓东开口说道:“我们几家公司自身可以解决光刻机设备以及光刻工艺技术方面难题,另外我们和罗志平先生的华微半导体科技公司一起合作正在开发刻蚀设备和薄膜沉积设备,可以解决国内半导体在刻蚀工艺和薄膜沉积工艺以及金属化工艺需要的设备和工艺技术,剩下的工艺设备如果国内能进行技术攻关把需要的设备研制出来就再好不过了。”
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