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057章 晶圆实验生产线!(2 / 2)

可以先把最开始的掩膜上的间距放宽,先刻蚀一遍,然后在这个基础上放上另外的掩膜再进行曝光,再刻蚀一次,那么我们就可以得到同样面积的晶圆衬底上得到两倍于之前的晶体管数量。”

“啊,这个技术构思简直是绝妙无比!”

这位技术经理满脸惊喜地说道,一下子意识到这个技术构思对提升制程工艺有着非常大的帮助。

周晓东开口说道:“当然,我们还可以在光罩的设计上想办法来提高曝光时候的分辨率,还是能够将晶体管的数量再次提升的。”

张振宇无比惊喜地说道:“周经理,我马上抽调一批技术骨干按照你的这个多重曝光技术构思进行技术研发,如果工艺研发顺利完成的话,这方面的技术专利还是要归于合资公司的。”

他见周晓东只是几句话就给力晶科技公司在制程工艺上捅开了一层窗户纸,心中惊为天人,也不好意思将这个技术方案归于力晶科技公司。

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