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第574章 阶段性研发目标(2 / 2)

说他提出的这要求是不遵循科学的基本规律,那可就大错特错了。

毕竟曾经,他可也算是被尖端芯片被卡脖子的受害者之一。

也是因此,在被卡脖子之时,他曾经深入的了解过整个光刻机的发展过程,所以对光刻机的发展史,他可真是了如指掌。

根据他的记忆,别看现在西方所曝光出来的研发进程,他们的光刻机依旧如张学东冯长宇所言,也还停留在微米阶段。

但事实上,现在西方的研究,其实已经将光刻的精度达到了纳米级!

而所采用的手段,就是准本子深紫外波段光源!

也就是说,就在当下,利用准分子深紫外激光制造纳米级芯片的技术,其实已经成熟。

在场一众之所以不理解,并非是他们的底蕴不够,只是因为不了解而已!

在这种情况下,他不让众人跳过电汞灯辐射紫外光这种落后技术,而是直接研究当下最先进的准分子激光,更待何时?

事实上,如果不是知道跳级这种事,可以玩从一年级跳到三年级,但绝对没法从一年级直接跳到大学这点,杨明怕是直接都得让众人直接从浸没式光刻技术开始研发,然后再直接转进到EUV技术路线的光刻机了……

也是因此,看着众人那你个外行出钱可以,但真的研发的话,你还是少外行指挥内行的表情,杨明微微一笑,然后侃侃而谈!

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