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第47章 蒲伟才(1 / 2)

1月15日,星期六。

合痩市。

乘坐高铁的卫明,来到了这座城市。

为此他特意跟樊姐请了两天假,提前处理了三十多名结石病人,合计腾出了三天时间,就为了解决掉一个问题。

人才!

高端光刻机的研发人才。

而且卫明已经有了明确的招募目标,他认为的最合适最优秀的人才,就在合瘦市这边。

此人名叫蒲伟才。

卫明是在网上查找相关信息的过程中,看到了多条关于此人的新闻。

也注意到此人带领的研发团队,取得的跟光刻机相关的多项研究成果,明白了此人的牛叉之处。

因为这些天卫明也在大力学习一些跟光刻机相关的知识,了解到了EUV光刻机的几大核心技术。

一个,组装。

光刻机最重要的技术之一是组装,就是把所有的元件组装起来,然后使分辨率达到最高,同时套刻精度达到最佳。

比如机器内部温度的变化要控制在千分之五度,得有合适的冷却方法,精准的测温传感器。一台光刻机中,包含十几个分系统,几万个机械件,数百个的传感器,每一个都要稳定。

二,控制。

光刻机是制造业内对精密性要求最高的产品。光刻的原理就像在米粒大小的面积上,雕刻纳米级大小的文字,对于误差的要求可想而知。

比如光刻机里有2个同步运动的工件台,一个载底片,一个载胶片。两者需始终同步,误差在2纳米以下。两个工作台由静到动,加速度跟导弹发射差不多。

三,光源。

制造EUV需要极高的能量。EUV能被空气吸收,所以光刻环节必须耗电保持真空环境。更夸张的是,EUV还能被透镜吸收,所以只能用十几次面透镜,通过不断反射将光源集中。

每反射1次,EUV的能量就会损失3成。十几次反射后,到达晶圆的光线理论上只剩下2%。从能连赶上看,寒国某半导体企业曾经说过,极紫外光EUV的能源转换效率只有0.02%左右。

四、镜头。

光刻机的中心镜头对于镜头要求较高,位于光刻机中心的镜头,由20多块锅底大的镜片串联组成,需要高纯度透光以及高抛光。

目前,符合光刻机要求的镜片还无法靠机器制造,先进光刻机镜头全部由手工打磨而成,能够达到这一标准的公司并不多,全世界范围内也就一两家,全部是西方老牌公司。

而这四大类的核心技术中。

卫明了解到这位牛人蒲伟才跟他的技术团队,在短短的十年时间里,一共攻克了两项。

分别是双工台技术与光源技术。

他带领团队研发出的高精密双工台,控制精度也达到了2纳米,跟国外最先进水平,达到了同等先进的程度,抹平了技术差距,可以说是打成了平手。

而在光源技术方面,蒲伟才也是只用了短短几年时间,利用国内在激光技术领域的领先地位,以及材料方面的领先优势,开发出的EUV光源系统,最终能源利用率达到了5%。

较之于艾思迈EUV光刻机的2%,能源利用率提升了一倍还多!

这意味着光刻机在使用的过程中,能节省一半多的电,减少产生大量的热量,系统的稳定性能提高不少。

也就是说,在EUV光刻机领域,蒲伟才这位牛人,以及他带领的技术团队,四大核心技术中,他们攻破了两个。

剩下的两大核心技术中。

组装技术方面,魔都微电子公司近年已取得了巨大突破,具备了将10万多个零件组合成一台光刻机,并让其长期稳定工作下去的能力。

唯独在镜头这块,国内还无法取得突破,因为艾思迈公司EUV光刻机所用的镜头,并不是机器制造出来的,而是镜头制造公司的工程师们,用20年时间,用几十万个小时精心打磨出来的,是工匠精神做到极致的产物!

华国想要追赶,但几乎找不到这种能耐心坐下来打磨几十年,能够把一面镜片,打磨到相当于一个蓝星大小的物体上,顶多只有1毫米凸起程度的工匠大师。

不过卫明表示:镜头方面的问题,交给他来解决就行。

利用小黑,别说打磨到“蓝星面积、毫米凸起”的程度,只要时间够,就是纳米级的程度都能做到。

镜头这块,完全交给卫明解决即可。

所以如今最重要的事情,就是把蒲伟才这个牛人招募过来,拉入到自己的公司中。

然而牛人不是你口口声声说要招募,就能随便招募的到。

卫明就是想到弄到蒲伟才的联系方式,知晓他的工作单位、居住地点,都是在猎头市场中,悬赏了100多万,才弄到对方的电话号码,了解了一些关于他的具体情况。

在来合瘦市之前,卫明就给他打了个招揽电话,却遭到了断然拒绝:

“不好意思,我没有跳槽换工作的打算,请不要再打电话过来了。”

“等等蒲博士!请听我细细说完,我公司想要研发制造出EUV光刻机,你是我特别需要的人才,只有你这样的天才的加盟我的

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